προϊόντα

Σπίτι > προϊόντα > Προσαρμοσμένα μεταλλικά μέρη > Εργαστηριακό εξοπλισμό 5n/6n 99,999% υψηλής καθαρότητας Si Silicon Sputtering Target Οπτικά υλικά επικάλυψης

Κατηγορίες

Υψηλής θερμοκρασίας συσσωματωμένο σύρμα

(5)

Μεταλλικά εξαρτήματα κατασκευασμένα κατά παραγγελία

(4)

Επαφές

Επαφές: Mr. Xu

Τηλεφώνημα: 86--18015519516

Επαφή τώρα

Στείλτε μας.

Εργαστηριακό εξοπλισμό 5n/6n 99,999% υψηλής καθαρότητας Si Silicon Sputtering Target Οπτικά υλικά επικάλυψης

Λεπτομέρειες για το προϊόν

Τόπος καταγωγής: Κίνα

Μάρκα: HaiChuan

Πιστοποίηση: ISO9001

Αριθμό μοντέλου: 63

Όροι πληρωμής και αποστολής

Ποσότητα παραγγελίας min: 10 κιλά

Τιμή: ＄70-90/kg

Συσκευασία λεπτομέρειες: Ξύλινο κουτί

Χρόνος παράδοσης: 10-15 ημέρες

Όροι πληρωμής: Λ/Κ, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram

Δυνατότητα προσφοράς: 10 τόνους ανά μήνα

Πάρτε την καλύτερη τιμή

Λεπτομέρειες για το προϊόν

Περιγραφή του προϊόντος

Επισημαίνω: 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                Στόχος 5nSputtering, 6n 99, 999% Στόχος ψεκασμού
                              

Υλικό:	πυριτίου	Δείγμα:	Υποστήριξη
Μέγεθος:	Τάγμα	Τύπος:	ΑΣΤΜ
Σχήμα:	Τάγμα	Εφαρμογή:	Βιομηχανία
Καθαρότητα:	Υψηλή καθαρότητα	Τοποθεσία καταγωγής:	Jiangsu, Κίνα

Υλικό:	πυριτίου
Δείγμα:	Υποστήριξη
Μέγεθος:	Τάγμα
Τύπος:	ΑΣΤΜ
Σχήμα:	Τάγμα
Εφαρμογή:	Βιομηχανία
Καθαρότητα:	Υψηλή καθαρότητα
Τοποθεσία καταγωγής:	Jiangsu, Κίνα

Εργαστηριακό εξοπλισμό 5n/6n 99,999% υψηλής καθαρότητας Si Silicon Sputtering Target Οπτικά υλικά επικάλυψης

Εργαστηριακό εξοπλισμό 5n/6n 99,999% υψηλής καθαρότητας Si Silicon Sputtering Target Οπτικά υλικά επίχρισμα

Οι στόχοι ψεκασμού πυριτίου είναι ένας τύπος υλικού που χρησιμοποιείται στη διαδικασία ψεκασμού, το οποίο χρησιμοποιείται για την κατάθεση λεπτών ταινιών υλικών σε υπόστρωμα.Η ψεκαστική είναι μια διαδικασία κατά την οποία τα άτομα από το στόχο υλικό εκτοξεύονται και εναποτίθενται σε ένα υπόστρωμα, δημιουργώντας ένα λεπτό φιλμ.

Στόχος επίστρωσης κενού CICEL PVD
Άρθρο	Καθαρότητα	Σφιχτότητα	Χρώμα επικάλυψης	Σχήμα	Τυπικό μέγεθος	Εφαρμογή
Στόχος κράματος τιτανίου αλουμινίου (TiAl)	2N8-4N	3.6-4.2	Χρυσό τριαντάφυλλο/χρυσό καφέ/χρυσό σαμπάνια	κυλίνδρος/πλανοειδής	(D) 70/100* (H) 100-2000 mm	Διακοσμητική επικάλυψη PVD & σκληρή επικάλυψη
Καθαρό χρώμιο (Cr) στόχος	2N7-4N	7.19	γκρι/μαύρο όπλο	κυλίνδρος/πλανοειδής	(D) 70/100* (H) 100-2000 mm
Καθαρό τιτάνιο (Ti) στόχος	2N8-4N	4.51	χρυσό/κόκκινο χρυσό/μπλε/ολόχρωμα/φως μαύρο/πυροβόλο γκρι	κυλίνδρος/πλανοειδής	(D) 70/100* (H) 100-2000 mm
Καθαρό Ζιρκόνιο (Zr) στόχος	2N5-4N	6.5	ελαφρύ χρυσό	κυλίνδρος/πλανοειδής	(D) 70/100* (H) 100-2000 mm
Καθαρό αλουμίνιο (Al) στόχος	4N-5N	2.7	ασημένιο	κυλίνδρος/πλανοειδής	(D) 70/100* (H) 100-2000 mm
Καθαρός νικέλιος (Ni) στόχος	3N-4N	8.9	νικέλιο	κυλίνδρος/πλανοειδής	(D) 70/100* (H) 100-2000 mm
Στόχος καθαρού νιοβίου (Nb)	3N	8.57	λευκό	κυλίνδρος/πλανοειδής	(D) 70/100* (H) 100-2000 mm
Καθαρό Ταντάλιο (Ta) στόχος	3N5	16.4	μαύρο/καθαρό	κυλίνδρος/πλανοειδής	(D) 70/100* (H) 100-2000 mm
Στόχος καθαρού μολυβδανίου (Mo)	3N5	10.2	μαύρο	κυλίνδρος/πλανοειδής	(D) 70/100* (H) 100-2000 mm
Σημειώσεις: Το μέγεθος μπορεί να προσαρμοστεί σύμφωνα με τις ειδικές απαιτήσεις

Εργαστηριακό εξοπλισμό 5n/6n 99,999% υψηλής καθαρότητας Si Silicon Sputtering Target Οπτικά υλικά επικάλυψης 0

Οι στόχοι ψεκασμού πυριτίου κατασκευάζονται από πυρίτιο υψηλής καθαρότητας και χρησιμοποιούνται σε διάφορες εφαρμογές, συμπεριλαμβανομένης της κατασκευής ημιαγωγών, της παραγωγής ηλιακών κυψελών και της μικροηλεκτρονικής.Μερικά από τα χαρακτηριστικά και τις εφαρμογές των στόχων ψεκασμού πυριτίου περιλαμβάνουν::

Υψηλή καθαρότητα: Οι στόχοι ψεκασμού πυριτίου κατασκευάζονται από πυρίτιο υψηλής καθαρότητας, γεγονός που τους καθιστά κατάλληλους για εφαρμογές ημιαγωγών και μικροηλεκτρονικών.

Καλή θερμική αγωγιμότητα: Το πυρίτιο έχει καλή θερμική αγωγιμότητα, γεγονός που το καθιστά χρήσιμο για εφαρμογές που απαιτούν αποτελεσματική διάχυση θερμότητας.

Χαμηλή απόδοση ψεκασμού: Το πυρίτιο έχει χαμηλή απόδοση ψεκασμού, γεγονός που το καθιστά μια καλή επιλογή για εφαρμογές που απαιτούν ακριβή έλεγχο του πάχους του φιλμ.

Υψηλό σημείο τήξης: Το πυρίτιο έχει υψηλό σημείο τήξης, γεγονός που το καθιστά ιδανική επιλογή για εφαρμογές που απαιτούν αντοχή σε υψηλές θερμοκρασίες.

Φωτοηλεκτρικές ιδιότητες: Το πυρίτιο έχει φωτοηλεκτρικές ιδιότητες, γεγονός που το καθιστά δημοφιλή επιλογή για την παραγωγή ηλιακών κυψελών.

Συνολικά, οι στόχοι ψεκασμού πυριτίου είναι υλικό υψηλής ποιότητας που είναι κατάλληλο για ένα ευρύ φάσμα εφαρμογών που απαιτούν ένα εξαιρετικά σταθερό, θερμικά αγωγό και φωτοηλεκτρικό υλικό.

Γενικές ερωτήσεις

Ε: Μπορώ να παραγγείλω μια ποσότητα δείγματος;
Α1: Ναι, δεν έχουμε MOQ.

Ε2: Μπορώ να προσθέσω το λογότυπό μου στα κουτιά/καρτόνια;
Α2: Ναι, OEM και ODM είναι διαθέσιμα από εμάς.

Ε3: Ποια είναι τα πλεονεκτήματα του να είσαι διανομέας;
Α3: Ειδική έκπτωση Προστασία εμπορίας.

Ε4: Πώς ελέγχει το εργοστάσιο σας την ποιότητα των προϊόντων σας;
Η ποιότητα είναι η ζωή του εργοστασίου μας, πρώτα, κάθε πρώτη ύλη, έρχεται στο εργοστάσιο μας, θα το δοκιμάσουμε πρώτα, αν είναι ειδική,Θα επεξεργαστούμε την κατασκευή με αυτές τις πρώτες ύλες.Αν όχι, θα το επιστρέψουμε στον προμηθευτή μας, και μετά από κάθε στάδιο κατασκευής, θα το δοκιμάσουμε, και στη συνέχεια όλη η διαδικασία κατασκευής ολοκληρώθηκε,Θα κάνουμε την τελική δοκιμή πριν τα εμπορεύματα φύγουν από το εργοστάσιό μας..

Ε5: Μπορούμε να αναμιγνύουμε τα προϊόντα σε ένα 20ft δοχείο;
Α5: Ναι.

Ε6: Μπορώ να επισκεφτώ το εργοστάσιό σας πριν από την παραγγελία;
Α6: Βεβαίως, καλωσορίζουμε την επίσκεψή σας στο εργοστάσιο.

Tags:

Στόχος 5nSputtering,

6n 99,

99.9995% Μεταλλικά κόκκοι Καθαρότητα σωματίδια χαλκού Καθαρό χαλκό σφαιρίδια χαμηλή τιμή ανώτερη ποιότητα σωματίδια χαλκού

Πάρτε την καλύτερη τιμή

Σπάνια κράματα μετάλλων

Προϊόν βολφραμίου

Τυλιγμένο Τουλφρένιο

Σφυρηλατημένο βολφραμίδιο

Κατασκευή βολφραμίου

Σκόνη βολφραμίου

Κράμα βολφραμίου

Προϊόν μολυβδενίου

Μεταλλικό μολυβδένιο

Κατασκευή μολυβδενίου

Σκόνη μολυβδενίου

Κράμα μολυβδαινίου

μέταλλα σπάνια γαίας

καθαρό τιτάνιο

Καθαρό νιόμπιου

καθαρό ταντάλιο

Καθαρό νικέλιο

Καθαρό Ζιρκόνιο

Καθαρό μαγνήσιο

Καθαρό Hafnium

Καθαρός ψευδάργυρος

Καθαρό Γαλλίμιο

Μέρη κραμάτων

Αντίσταση Θέρμανση σύρματος

Κράμα NiCr

Κράμα CuNi

Υψηλής θερμοκρασίας συσσωματωμένο σύρμα

Προσαρμοσμένα μεταλλικά μέρη

ψεκάζοντας στόχος

Κούβοι από μεταλλικά στοιχεία

Μεταλλικά κόκκοι

Υγρά κράματα μετάλλου

Μεταλλικά εξαρτήματα κατασκευασμένα κατά παραγγελία

Εργαστηριακό εξοπλισμό 5n/6n 99,999% υψηλής καθαρότητας Si Silicon Sputtering Target Οπτικά υλικά επικάλυψης

Στόχος 5nSputtering

6n 99

999% Στόχος ψεκασμού

Στόχος 5nSputtering,

6n 99,

Σπάνια κράματα μετάλλων

Προϊόν βολφραμίου

Προϊόν μολυβδενίου

μέταλλα σπάνια γαίας

Αντίσταση Θέρμανση σύρματος

Προσαρμοσμένα μεταλλικά μέρη